CC BY
21
УДК 621.9.047:669:538.8
В. М. Шеменков, М. А. Белая, А. Л. Шеменкова
ВЛИЯНИЕ ОБРАБОТКИ ТЛЕЮЩИМ РАЗРЯДОМ НА СТРУКТУРУ, ФАЗОВЫЙ СОСТАВ И ТВЕРДОСТЬ ИЗНОСОСТОЙКИХ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ ТИТАНА
UDC 621.9.047:669:538.8
V. M. Shemenkov, M. A. Belaya, A. L. Shemenkova
EFFECT OF GLOW DISCHARGE TREATMENT ON STRUCTURE, PHASE COMPOSITION AND HARDNESS OF WEAR-RESISTANT PROTECTIVE TITANIUM-BASED COATINGS
Аннотация
Представлены результаты исследования структуры, фазового состава и твердости износостойких защитных покрытий типа TiC и TiN, полученных методом магнетронного напыления, как в исходном состоянии, так и подвергнувшихся обработке при различных энергетических характеристиках высоковольтного тлеющего разряда.
Ключевые слова:
тлеющий разряд, структура, фазовый состав, износостойкое защитное покрытие, модифицирующая обработка, поверхностный слой, микротвердость, титан.
Abstract
The paper presents results of the research into the structure, phase composition and hardness of wear-resistant protective coatings of the TiC and TiN type, obtained by magnetron sputtering, both in the initial state and subjected to treatment with high-voltage glow discharge having different energy characteristics.
Key words:
glow discharge, structure, phase composition, wear-resistant protective coating, modifying treatment, surface layer, microhardness, titanium.
Введение
Надежность работы любого механизма или оснастки в большей степени зависит от эксплуатационных характеристик рабочих поверхностей деталей. В инструментальном производстве данная проблема стоит еще острее. Подвергаясь наиболее сильным трибомехани-ческому и трибохимическому воздействиям при эксплуатации, передняя поверхность любого режущего инструмента определяет его эксплуатационные свойства.
Одним из эффективных методов
повышения качественных характеристик ответственных поверхностей являются технологии, основанные на нанесении защитных износостойких покрытий [1].
В качестве материалов для формирования покрытий применяют различные металлы, сплавы, а также порошки. При большом разнообразии материалов в настоящее время в инструментальной промышленности широко используются износостойкие защитные покрытия на основе титана, в частности Т1С и ТГ№.
Современные тенденции в металлообработке, связанные с постоянным
© Шеменков В. М., Белая М. А., Шеменкова А. Л., 2017
ростом скоростей резания и применением труднообрабатываемых материалов, диктуют новые требования к износостойкости защитных покрытий. Задача может быть решена путем разработки новых составов износостойких покрытий, что требует значительных материальных затрат.
Одним из перспективных методов повышения эксплуатационных характеристик широкой гаммы инструментальных материалов и износостойких защитных покрытий является обработка их тлеющим разрядом [2-7].
Целью работы являлось изучение влияния обработки тлеющим разрядом на структурные и фазовые превращения, протекающие в износостойких защитных покрытиях на основе титана, и установление влияния выявленных изменений на повышение микротвердости покрытия.
В качестве объекта исследования были выбраны образцы из стали 20, подвергнутые закалке, с нанесенными методом магнетронного распыления износостойкими защитными покрытиями из TiC и TiN толщиной 3.. .5 мкм. В качестве мишени использовалась пластина из титана марки ВТ 1-0 (чистота 99,3) ГОСТ 19807-91.
Методика исследования. Результаты исследования и их обсуждение
В работе применялись электронно-микроскопический, рентгеноструктур-ный методы анализа фазового состава и структуры, а также исследовалась микротвердость покрытия.
Электронно-микроскопический анализ поверхностного слоя образцов проводился при помощи сканирующего электронного микроскопа Tescan VEGA 2SBA. Подготовка образцов осуществлялась по стандартной методике.
Рентгеноструктурный анализ проводился на рентгеновском дифракто-метре ДРОН-3.0. Рентгеновская съемка
осуществлялась в кобальтовом излучении (CoKa) геометрии по Брэггу-Брентано в режиме сканирования по точкам. Шаг сканирования составлял Д29 = 0,1°. Время набора импульсов на точку - 15 с. Индицирование дифракционных линий проводилось с использованием картотеки PDF.
Физическое уширение дифракционных линий определялось методом аппроксимации с помощью программного обеспечения HighScore++ (Panalytical, Нидерланды). В качестве эталона использовался образец отожженной стали 20.
Измерение микротвердости производилось на твердомере Zwick Roell ZHV 1M путем вдавливания алмазного наконечника в форме правильной четырехгранной пирамиды с углом при вершине между противоположными гранями 136° в образец под действием нагрузки 0,245 Н, приложенной в течение 10 с.
Металлографический анализ поверхности покрытий до обработки тлеющим разрядом (рис. 1) свидетельствует о том, что микроструктура соответствует классической микроструктуре, полученной после магнетронного распыления.
На снимках ярко выражено характерное для магнетронного распыления наличие на поверхности покрытия мелкодисперсных частиц титана.
Модифицирующая обработка покрытий в тлеющем разряде приводит к незначительному диспергированию частиц титана, что вызвано наличием эффекта распыления в процессе обработки. Более существенных изменений микроструктуры не обнаружено (рис. 2).
Для детального исследования влияния модифицирующей обработки на покрытия было проведено изучение дифракционных отражений карбидов и нитридов титана.
■■ '. . N » . ' „- .V :.i > '
r "•*.'.. y . v " '•.:. y " v .• ' r
:■„' 7 '.4 i-i - ■ ,
.'. .'• : ' r _ Г
• ' O • ' . tv • ■•» . . -
•"Л. ''' \ , ' -i
'' ' с ' . f .. » .'i-' . o . * •• • /' е.- '
• , 6- : ■Г :
•V,-V'; y . ■ o
■ • " ' i í-.'' ■ '' \. f . с • v • l •e Л' C
> l- ¡-у ; ' . ;'r- ' \ v- o" '•
• \ ■o" .0: ' с : , C' ' r ■.
■ -.v" . ' • <r p' . -.Л'.:'■ O <•.
.4 ' ' '
г f Ш) , í >
SEM HV: 20.00 kV WD: 11.2000 mm ....... VEGAtt TESCAN I
\Tlew field: 563 1 ) Ti Det: SE Detector 100 pm m*
Date(m/d/y|: 10Ю7/1Г supervisor Dígita 1 Microscopy Imaging|
Рис. 1. Структура износостойкого защитного покрытия из ТЮ (а) и ТШ (б)
• • o o ,
O •• ' ".' V
• 0
•о/ y* " ' • V;.. ^;
■ - o .* ' . . Щ ° o ', p ■: • * c" д « • • •■• V ; •' л' . • 'j; ; ,. ' V'©- Ц
Ш.1Ш ■ e
\ - . ..•■>.» • • J . . V " . ; • ' , • v' • •-•'•:"' ' J-. . с ; '.•'•' с г • j •
0. . • ■.• 'o- . '-.....
' Л \ . • ' • .:• . 'c, с с : > .
; -.'.o Л . :o • /
et . o • y j t 1 '":-..■•". "
КЕМ HV: 20.00 W WD: 11.1270 mm fie | I . 1 VEGAWTESCAN
í/iew field: 426.1 ]jm Det: SE Detector 100 tim га*
pate(mídjy): 10/07/17 supervisor Digital Microscopy imaging LJ
• -Й 'V :
-О
с . >' Ш
•. Су i [>
с:
«.....■■' - . г-.,
SEM HV: 20.00 kV WD: 11.2620 mm l/iewfield: 426.1 мт Del: SE Detector Date(m/d//) 10/07/17 supervisor
I I VEGAWTESCAN
100 ¡-1:
Digital Microscopy Imaging j
Рис. 2. Структура износостойкого защитного покрытия из ТЮ (а) и Т1М (б) после обработки тлеющим разрядом с напряжением горения 3000 В и силой тока 0,375 мА/м2
На рис. 3 представлены фрагменты рентгеновских дифрактограмм образцов покрытий Т1С в исходном состоянии и
после модифицирующей обработки в тлеющем разряде с различными параметрами горения.
Рис. 3. Фрагменты рентгеновских дифрактограмм покрытий ТЮ, нанесенных на стальную основу, до и после модифицирующей обработки в тлеющем разряде с различными параметрами горения
Покрытие в исходном состоянии (см. рис. 3, а) регистрируется двумя линиями от карбида титана с индексами 111 и 220. Это свидетельствует о том, что рост покрытия происходит преимущественно в направлениях <111> и <110>. Физическое уширение дифракционных линий (111) и (220) от карбида Т1С составляет соответственно Р111 ~ 49,5-10-3 рад и Р220 ~ 75,4-10-3 рад. При этом отношение Р220/Р111 = 1,52 находится в диапазоне между 8ес0220/8ее0111 = 1,16 и 1§0220Л§0111 = = 1,87. Указанное свидетельствует о том, что уширение дифракционных линий обусловлено как дисперсностью кристаллического строения покрытия ТЮ, так и высоким содержанием в нем линейных дефектов (дислокаций и дислокацион-
ных скоплений). Параметр решетки карбида титана составляет 0,428 нм (это существенно меньше табличного значения параметра решетки карбида TiC (TiC - ГЦК кристаллическая решетка, пространственная группа Fm-3m, a = 0,4327 нм [8], карточка PDF № 32-1383), что может указывать на нестехиометри-ческий состав покрытия и наличие в нем мощных растягивающих макронапряжений.
В результате обработки покрытий TiC тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2 (см. рис. 3, б) регистрируется небольшое снижение величины физического уширения дифракционной линии (111) до величины Р111 ~ 46,1-10"3 рад. При этом уширение линии (220) не-
сколько возрастает (Р220 ~ 77,2-10-3 рад). Отношение Р220/Р111 ~ 1,67, также находящееся между величинами отношений секансов и тангенсов соответствующих углов дифракции, показывает, что уши-рение дифракционных линий так же, как и для необработанного покрытия Т1С, обусловлено дисперсностью кристаллического строения покрытий и высоким содержанием в них линейных дефектов. Тем не менее, на основании зарегистрированного роста отношения Р220/Р111 можно сделать вывод, что после обработки тлеющим разрядом с указанными параметрами вклад в уширение дифракционных линий от наличия дефектов кристаллического строения будет выше, чем в покрытии в исходном состоянии. Величина параметра решетки карбидов ТЮ не претерпевает существенных изменений, что свидетельствует о том, что обработка покрытий тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2 не приводит к снятию остаточных растягивающих макронапряжений.
В результате обработки покрытия Т1С тлеющим разрядом с напряжением горения 2000 В и плотностью тока 0,25 мА/м2 (см. рис. 3, в) регистрируется дальнейшее снижение величин физического уширения дифракционных линий (111) и (220) карбида Т1С Р111 ~ 42,4-10-3 рад и Р220 ~ 70,4-10"3 рад. Отношение Р220/Р111 ~ 1,66 так же, как и в случае обработки тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и силой тока 25мА, находится между величинами отношений секансов и тангенсов соответствующих углов дифракции и свидетельствует о том, что уширение дифракционных линий обусловлено как дисперсностью кристаллического строения покрытий, так и высоким содержанием в них линейных дефектов. При этом пониженные значения величин Р220 и Р111 по сравнению с образцами покрытий Т1С в исходном необработанном состоянии могут свидетельствовать о том, что в результате обработки покры-
тий тлеющим разрядом с напряжением горения 2000 В и плотностью тока 0,25 мА/м2 происходит небольшой рост размеров зерен карбидов Т1С и снижение в них плотности дислокаций. Величина параметра решетки карбидов Т1С так же, как и в случае обработки покрытий тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2, не претерпевает существенных изменений, что свидетельствует о том, что обработка покрытий разрядом с указанными параметрами не приводит к снятию остаточных растягивающих макронапряжений.
В результате обработки покрытий Т1С тлеющим разрядом с напряжением горения 3000 В и силой тока 0,375 мА/м2 (см. рис. 3, г) регистрируется еще большее уменьшение величин физического уширения дифракционных линий (111) и (220) карбида Т1С Р111 ~ 41,3-10-3 рад и Р220 ~ 58,2-10-3 рад. Отношение Р220/Р111 существенно снижается по сравнению с необработанным состоянием покрытий до величины Р220/Р111 ~ 1,41. Вместе с тем, отношение Р220/Р111 также находится между величинами отношений секансов и тангенсов соответствующих углов дифракции и показывает, что уширение дифракционных линий обусловлено как дисперсностью кристаллического строения покрытий, так и высоким содержанием в них линейных дефектов. При этом уменьшение величин Р220 и в 111 по сравнению с образцами покрытий ТЮ в исходном необработанном состоянии так же, как и в случае обработки тлеющим разрядом с напряжением горения 2000 В и силой тока 50 мА, может указывать на рост размеров зерен карбидов ТЮ и снижение в них плотности дислокаций. Существенное снижение отношения Р220/Р111 по сравнению с покрытиями в исходном состоянии и обработанными тлеющим разрядом покрытиями при ранее описанных режимах может свидетельствовать об увеличении степени корреляции в распределении дис-
локаций и формировании развитой системы дислокационных стенок (субзерен с малоугловыми границами). Величина параметра решетки карбидов Т1С при этом возрастает до а = 0,429 нм, что может свидетельствовать о некотором снятии остаточных растягивающих макронапряжений в результате обработки покрытий тлеющим разрядом с
напряжением горения 3000 В и силой тока 0,375 мА/м2.
На рис. 4 представлены фрагменты рентгеновских дифрактограмм образцов покрытий Т1К в исходном состоянии и после модифицирующей обработки в тлеющем разряде с различными параметрами горения.
до
Рис. 4. Фрагменты рентгеновских дифрактограмм покрытий ТШ, нанесенных на стальную основу, и после модифицирующей обработки в тлеющем разряде с различными параметрами горения
На рентгеновской дифрактограмме от покрытия Т1К в исходном необработанном состоянии регистрируются почти все линии от нитрида титана, что указывает на отсутствие выраженной тексту-рированности покрытий и, следовательно, об отсутствии преимущественного направления их роста. Физическое уши-рение дифракционных линий (111)
и (220) от карбида Т1К составляет соответственно Р111 ~ 65,1 -10-3 рад и Р220 ~ 82,6-10-3 рад. При этом отношение Р220/Р111 ~ 1,27, находящееся в диапазоне 8ес0220/8ес0ш = 1,16 < Р220/Р111 < 1§0220Л§0111 = 1,87, существенно ниже отношения Р220/Р111 для случая покрытий Т1С. Изложенное означает, что уши-рение дифракционных линий преимуще-
ственно обусловлено дисперсностью кристаллического строения покрытия TiN. Параметр решетки нитрида титана составляет 0,425 нм (это несколько выше табличного значения параметра решетки нитрида TiN (TiN - ГЦК кристаллическая решетка, пространственная группа Fm-3m [8], a = 0,4242 нм, карточка PDF № 38-1420)), что указывает на нестехиометрический состав покрытия и наличие в нем остаточных сжимающих макронапряжений.
В результате обработки покрытия TiN тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2 (см. рис. 4, б) регистрируется небольшое снижение величины физического уширения дифракционных линий (111) и (220) до рш ~ 57,2-10"3 рад и Р220 ~ 70,5-10-3 рад. Отношение Р220/Р111 при этом почти не изменяется и составляет 1,23, что так же, как и в случае необработанного покрытия TiN, свидетельствует о том, что уширение дифракционных линий обусловлено дисперсностью кристаллического строения покрытий. Тем не менее, на основании зарегистрированного снижения величин Р220 и в 111 можно сделать вывод, что обработка покрытий TiN тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2 приводит к росту размеров зерен нитридной фазы. Величина параметра решетки TiN несколько возрастает (a = 0,427 нм), что свидетельствует об увеличении уровня сжимающих напряжений.
В результате обработки покрытий TiN тлеющим разрядом с напряжением горения 2000 В и плотностью тока 0,25 мА/м2 (см. рис. 4, в) регистрируется меньшее снижение величины физического уширения дифракционной линии (111) (Р111 ~ 61,2-10"3 рад ) и большее снижение уширения линии (220) (Р220 ~ 67,8-10-3 рад) по сравнению с обработкой в тлеющем разряде с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2. Отношение Р220/Р111 ~ ~ 1,11 так же, как и в первом случае,
указывает на то, что уширение дифракционных линий обусловлено дисперсностью кристаллического строения покрытий. Величина параметра решетки Т1К несколько возрастает (а = 0,426 нм), что указывает на увеличение уровня сжимающих напряжений. Вместе с тем, величина параметра решетки нитрида Т1К после обработки тлеющим разрядом с напряжением горения 2000 В и плотностью тока 0,25 мА/м2 ниже, чем после обработки тлеющим разрядом с напряжением горения 1000 В и плотностью тока 0,125 мА/м2. Указанное может свидетельствовать о незначительном увеличении уровня сжимающих напряжений по сравнению с обработкой тлеющим разрядом с предыдущими режимами.
В отличие от обработки покрытий Т1К тлеющим разрядом с указанными ранее энергетическими характеристиками в результате обработки покрытий тлеющим разрядом с напряжением горения 3000 В и силой тока 0,375 мА/м2 (см. рис. 4, г) регистрируется увеличение величин физического уширения дифракционных линий (111) и (220) до Р111 ~ 65,9-10-3 рад и Р220 ~ 105,4-10-3 рад соответственно. Отношение Р220/Р111 также возрастает до величины 1,60. При этом в отличие от результатов обработки покрытий тлеющим разрядом с предыдущими энергетическими характеристиками отношение Р220/Р111 находится между величинами отношений секансов и тангенсов соответствующих углов дифракции и указывает на то, что уширение дифракционных линий Т1К обусловлено как дисперсностью кристаллического строения покрытий, так и высоким содержанием в них линейных дефектов. Таким образом, можно заключить, что обработка нитридных покрытий Т1К тлеющим разрядом с напряжением горения 3000 В и силой тока 0,375 мА/м2 приводит к увеличению плотности дислокаций в покрытиях. Величина параметра решетки нитридов Т1К при этом возрастает до
а = 0,427 нм, что так же, как и в предыдущих случаях, может подтверждать увеличение уровня сжимающих напряжений в покрытиях.
В рамках работы исследовалась зависимость приращения микротвердости покрытий от основных технологических факторов процесса модифицирующей обработки в тлеющем разряде,
которая была аппроксимирована полиномом второй степени, отвечающим требованию ротатабельности и адекватно представляющим эксперимент.
В результате статистической обработки экспериментальных данных [9] получена зависимость приращения микротвердости покрытия Т1С в натуральном выражении:
ДИУТ1С= 18,5 - 0,6
(
+ 2,9
и - 2,0
\(
0,7
(И - 2,04 V 0,7 , I - 0,254
+ 0,3
(I - 0,254 V 0,075 ,
- 0,5
Т - 30 10
(
ч 0,075
- 0,7
I - 0,25 V Т - 30
ч 0,075
+ 0,3
( И - 2,0 ^ V 0,7 ,
+ 2,0
(I - 0,25 ^ V 0,075 ,
+ 1,8
V 10
Т - 30'
10
(1)
Графическая интерпретация полученной модели, показывающая зависимость приращения микротвердости образцов с нанесенным износостойким защитным покрытием ТЮ от двух тех-
нологических факторов обработки тлеющим разрядом при значении третьего, находящегося на основном уровне (I = 0,25 А/м2, Т = 30 мин, И = 2,0 кВ), представлена на рис. 5.
Рис. 5. Влияние напряжения горения тлеющего разряда И и времени обработки Т (а), напряжения горения тлеющего разряда И и плотности тока I (б), плотности тока I и времени обработки Т (в) на приращение поверхностной твердости образцов с нанесенным износостойким защитным покрытием ТЮ
В результате статистической обработки экспериментальных данных [9] получена зависимость приращения мик-
ротвердости покрытия Т1К в натуральном выражении:
ДИУТМ =27,5 + 0,3
- 0,7
(
- 3,1
И - 2,0 0,7
+ 0,1
\(
I - 0,25
( И - 2,0'
V 0,7 у ч (
(I - 0,25'
0,075
- 0,5
Т - 30 10
V
0,075
+ 3,6
И - 2,0 V Т - 30
V
0,7
( И - 2,0' 0,7
+ 0,3
(I - 0,25'
V
0,075
10
-1,91
- 0,6
Т - 30 10
I - 0,25 V Т - 30
0,075
10
(2)
Графическая интерпретация полученной модели представлена на рис. 6.
Заключение
Обработка тлеющим разрядом покрытия Т1С приводит к росту размеров зерен карбидов титана и снижению в них плотности дислокаций, увеличению степени корреляции в распределении дислокаций, формированию развитой системы дислокационных стенок и сня-
тию остаточных растягивающих макронапряжений, что, в свою очередь, приводит к повышению микротвердости на 25...30 %.
Обработка тлеющим разрядом покрытия Т1К приводит к дисперсности кристаллического строения нитридов титана, увеличению плотности дислокаций и уровня сжимающих напряжений, что, в свою очередь, приводит к повышению микротвердости на 30.40 %.
а) б) в)
Рис. 6. Влияние напряжения горения тлеющего разряда И и времени обработки Т (а), напряжения горения тлеющего разряда И и плотности тока I (б), плотности тока I и времени обработки Т (в) на приращение поверхностной твердости образцов с нанесенным износостойким защитным покрытием ТШ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
1. Григорьев, С. Н. Методы повышения стойкости режущего инструмента : учебник / С. Н. Григорьев. - Москва : Машиностроение, 2009. - 368 с. : ил.
2. Ходырев, В. И. Прогрессивные электрофизические методы упрочнения твердосплавного инструмента / В. И. Ходырев, А. Ф. Короткевич, В. М. Шеменков // Вестн. МГТУ. - 2002. - № 2. -С. 159-163.
3. Способ упрочнения изделий из металла или сплава, или сверхтвердого или графитсодержащего материала : пат. № 14716 БУ, И С 21 Б 1/78 / В. М. Шеменков, А. Ф. Короткевич; заявитель и патентооб-
ладатель ГУ ВПО «Белорусско-Российский университет». - № 20091136 ; заявл. 27.07.2009 ; опубл. 10.05.2011. - 3 с.
4. Шеменков, В. М. Влияние параметров модифицирующей обработки тлеющим разрядом на структуру и свойства твердых сплавов / В. М. Шеменков, Ф. Г. Ловшенко, Г. Ф. Ловшенко // ГГУ им. Я. Купалы, - 2012. - Т. 6, № 2. - С. 52-65.
5. Повышение эксплуатационных характеристик режущего инструмента обработкой в плазме тлеющего разряда / В. М. Шеменков и [др.] // Фунд. проблемы соврем. Материаловедения. - 2014. -Т. 11, № 4. - С. 540-544.
6. Шеменкова, А. Л. Влияние тлеющего разряда на структуру и фазовый состав режущей оксидно-карбидной керамики / А. Л. Шеменкова, Ф. Г. Ловшенко, В. М. Шеменков // Вестн. Белорус.-Рос. ун-та. - 2015. - № 3. - С. 79-87.
7. Влияние плазменной обработки на структуру и свойства быстрорежущих сталей Р6М5 и 8390 / О. В. Обидина и [др.] // Фунд. проблемы соврем. материаловедения. - 2016. - Т. 13, № 4. - С. 522-529.
8. Горелик, С. С. Рентгенографический и электронно-оптический анализ : учебное пособие / С. С. Горелик, Ю. А. Скаков, Л. Н. Расторгуев. - 4-е изд., доп. и перераб. - Москва : МИСИС, 2002. -360 с. : ил.
9. Спиридонов, А. А. Планирование эксперимента при исследовании технологических процессов / А. А. Спиридонов. - Москва : Машиностроение, 1981. - 184 с. : ил.
Статья сдана в редакцию 2 октября 2017 года
Владимир Михайлович Шеменков, канд. техн. наук, доц., Белорусско-Российский университет. E-mail: [email protected].
Марина Александровна Белая, ассистент, Белорусско-Российский университет. E-mail: [email protected].
Алла Леонидовна Шеменковa, инженер-технолог, ОАО «Могилевлифтмаш». E-mail: [email protected].
Vladimir Mikhailovich Shemenkov, PhD (Engineering), Associate Prof., Belarusian-Russian University. E-mail: [email protected].
Marina Aleksandrovna Belaya, assistant lecturer, Belarusian-Russian University. E-mail: [email protected].
Alla Leonidovna Shemenkova, manufacturing engineer, JSC «Mogilevliftmash». E-mail: [email protected].
